Próżniowy system do napylania magnetronowego

Prosta i w pełni funkcjonalna aparatura do powtarzalnego nakładania cienkich warstw przy pomocy rozpylania magnetronowego. Sprzęt jest zoptymalizowany do osadzania z dwóch źródeł w tym samym czasie (z ang. co-deposition) próbek TEM.

- Ciśnienie bazowe 10-7 mbar

- Średnica komory procesowej: Ø 355 mm

- Stolik na próbki/substraty o średnicy do 2″

- Dwa 2’’ źródła magnetronowe

- Dwa zasilacza

- Automatyczne dozowanie gazu argonowego poprzez precyzyjny przepływomierz masowy

- Ręczny zawór dławiący

- Podgrzewanie substratu do 600 °C 

- Obrót stolika z próbką/substratem (0 - 60 rpm)

- Waga kwarcowa i urządzenie elektroniczne do pomiaru szybkości osadzania

- System próżniowego przenoszenia uchwytu TEM