System do wysokorozdzielczej litografii elektronowej
W pomieszczeniu czystym klasy 100 znajduje się urządzenie do litografii elektronowej (Raith eLine+). Układ składa się z działa elektronowego, detektora elektronów wtórnych, detektora in-lens, interferometru laserowego, elektroniki sterującej oraz układu pomp do utrzymania odpowiedniej próżni w urządzeniu. Układ umożliwia naświetlanie elementów o rozmiarach od 10 nm do kilkaset µm na powierzchni próbki o rozmiarach do 4 cali.
Dodatkowo w pomieszczeniu znajduje się stół procesowy (firmy Arias) do nakładania, wygrzewania i usuwania rezystów. W stole mamy umiejscowioną płytę grzewczą, myjkę ultradźwiękowa, wirówkę, pistolet z azotem do zdmuchiwania pyłków z próbek i pistolet z wodą destylowaną do przemywania próbek. Do stołu są doprowadzone niezbędne instalacje takie jak wodna, gazowa i odciąg umiejscowiony w blacie stołu, który na bieżąco odprowadza opary substancji chemicznych na zewnątrz.
Litografia elektronowa jest wykonywana przy użyciu rezystów pozytywowych serii AR-P 617, natomiast litografia negatywowa jest oparta o rezysty serii AR-N 7520.
Aparatura udostępniania na zasadach wynikających z Regulaminu Korzystania z Infrastruktury Badawczej ACMiN. (https://acmin.agh.edu.pl/acmin/dokumenty/)
Użytkownicy aparatury mają możliwość dokładnej nanostrukturyzacji w opisanej rozdzielczości. Całość procesu odbywa się w pomieszczeniach czystych co wpływa korzystnie na jakość otrzymywanych próbek. W połączeniu z bliskim sąsiedztwem pomieszczenia do ablacji laserowej, możliwym jest uzyskanie kompletnych złącz z potencjałem zastosowania w dziedzinach nauki takich jak np. spintronika.
Jednostka odpowiedzialna
Grupa / laboratorium / zespół
Zakład Efektów Kwantowych w Nanostrukturach