Próżniowy system do nanoszenia cienkich warstw i wytwarzania nanocząstek

Stanowisko laboratoryjne składa się z dwóch próżniowych komór procesowych firmy Mantis, spełniających standardy wysokiej próżni (HV). Pierwsza komora procesowa służy do nanoszenia jednoczesnego lub sekwencyjnego wieloskładnikowych cienkich warstw oraz struktur wielowarstwowych metali i związków metali o kontrolowanym składzie chemicznym i grubości. Druga komora procesowa umożliwia wytwarzanie nanocząstek metali i tlenków metali za pomocą działa klastrowego wykorzystującego metodę rozpylania jonowego w połączeniu z techniką IGC (Inert Gas Condensation). Rozkład wielkości nanocząstek jest kontrolowany za pomocą spektrometru masowego. Możliwe jest również jednoczesne pokrywanie nanocząstek otoczką z innego metalu lub tlenku metalu.

Parametry pracy:

• wysoka próżnia wstępna 1·10-8 Torr
• ciśnienie gazu roboczego 1·10-2-1·10-4 Torr
• kontrolowana temperatura podłoża (25-800°C)
• regulowane napięcie polaryzacji podłoża (0-600 V)
• prędkość obrotu uchwytu z podłożem (0-20 rpm)
• podłoże (2 cale)
• pomiar szybkości nanoszenia warstw (czujnik kwarcowy QCM)
• regulowany, stały przepływ gazów (Ar, N₂, O₂)

Nanoszenie cienkich warstw:

• dwa magnetronowe źródło rozpylania DC oraz magnetronowe źródło rozpylania RF
• stabilizowany, stały prąd rozpylania (DC) oraz stabilizowana, stała moc rozpylania (RF)

Wytwarzanie nanocząstek:

• Nanogen Trio-3 magnetronowe źródła rozpylania DC
• stabilizowany prąd rozpylania (DC)
• napięcie polaryzacji w komorze agregacyjnej (0-20 V)
• strefa agregacyjna chłodzona ciekłym azotem
• kontrolowany rozmiar otrzymywanych cząstek 1-20 nm przy pomocy kwadrupolowego spektrometru masowego