Dwuwiązkowy wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z działem jonów galu (FIB/SEM)

Dwuwiązkowy wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy FEI Versa 3D wyposażony jest w działo elektronowe z emisją polową (FEG - Field Emission Gun) oraz działo jonowe Ga⁺ (FIB - Focused Ion Beam). Umożliwia pracę z napięciem przyspieszającym w zakresie od 500 V do 30 kV (max. prąd wiązki elektronowej 200 nA). Zdolność rozdzielcza mikroskopu definiowana jako rozdzielczość obrazów elektronów wtórnych przy napięciu przyspieszającym 30 kV na standardowej próbce cząstek złota wynoszącej 1 nm w trybie wysokiej próżni – HV (1.5 nm w trybie niskiej próżni - LV).

Mikroskop wyposażony jest w:

• detektory do obrazowania w trybie wysokiej (ETD, CBS) i niskiej próżni (LVSED) oraz trybie środowiskowym (GSED).
• spektrometr dyspersji energii promieniowania rentgenowskiego (EDS - Energy Dispersive X-ray Spectrometer) Ultim MAX 40 oraz kamerę CMOS Symmetry S2 firmy Oxford Instruments umożliwiającą pomiary dyfrakcji elektronów wstecznie rozproszonych (EBSD - Electron Backscatter Diffraction),
• detektor umożliwiający obrazowanie w trybie skaningowo-transmisyjnym (STEM),
• działo jonowe Ga⁺ (FIB) i system precyzyjnego dozowania gazów roboczych (GIS - Gas Injection System). Możliwość depozycji platyny (Pt) lub wolframu (W),
• dwa stoliki grzewcze (do 1000°C i 1500°C),
• stolik Peltiera,
• nanoindenter FT-NMT04 firmy Femtotools,
• oprogramowanie Auto Slice&View,
• układ dwóch nanomanipulatorów (mibotów) firmy Imina.

Maksymalne wymiary próbek – średnica: 150 mm, wysokość: 55 mm; waga: 500 g.