Aparatura
System do trawienia i nanoszenia warstw z wyposażeniem
Jednostka:
Instytut Elektroniki
Osoba kontaktowa:
Wiśniowski Piotr
Opis techniczny:
Komora próżniowa z magnetronami DC i RF oraz źródłem jonów KDC40.
1.Dwa źródła magnetronowe
Kołnierz montażowy: DN 100CF
Max. moc (DC ): 400 W DC
Max. moc (RF ): 400 W RF
Max. napięcie (DC): 1200 V
…
Laserowy system do mikrofabrykacji układów elektronicznych pracujących w zakresie fal mikrofalowych i milimetrowych
Jednostka:
Instytut Elektroniki
Osoba kontaktowa:
Staszek Kamil
Opis techniczny:
Mikroobróbka w laboratorium Źródło lasera UV jako wszechstronne narzędzie LPKF ProtoLaser U4 wykorzystuje laser naprowadzany skanerem o długości fali 355 nm w widmie UV, który został specjalnie opracowany do stosowania w laborat…
Stanowisko do wytwarzania i badań in situ nanostruktur sensorowych
Jednostka:
Instytut Elektroniki
Osoba kontaktowa:
Zakrzewska Katarzyna
Opis techniczny:
Technologiczno-pomiarowe stanowisko składające się z 5 niezależnych komór spełniających standardy ultra-wysokiej próżni (UHV) firmy PREVAC
